Собянин: В Москве создано важнейшее оборудование для производства микросхем
Компания — резидент ОЭЗ «Технополис «Москва» разработала первый в России фотолитограф с разрешением 350 нанометров. В мире всего несколько государств способны создавать подобное оборудование, и теперь среди них — Россия. Об этом в субботу, 22 марта, сообщает мэр Москвы Сергей Собянин.
Глава города рассказал, что этот шаг стал важной вехой на пути к собственному производству микроэлектроники и технологической независимости страны. Отечественный фотолитограф разработан совместно с белорусским заводом, обладающим большим опытом в этой сфере.
Установка заметно отличается от зарубежных аналогов: вместо ртутной лампы в ней впервые использован твердотельный лазер. Это делает устройство более энергоэффективным, долговечным и позволяет добиться узкого спектра излучения. На новое оборудование уже есть заказчик. Ведется адаптация технологических процессов под требования производства конечного потребителя.
— Также сейчас идет разработка фотолитографа с разрешением 130 нанометров. Завершить его планируется в 2026 году, — написал Собянин в своем Telegram-канале.
Кроме того, мэр столицы рассказал, что в «Алабушеве» реализуются масштабные проекты по строительству фармацевтических заводов.
